磁控溅射与电子束镀膜:3532三氧化二钛靶材的新探索
介绍 磁控溅射是一种常用的薄膜制备技术,它可以制备高质量、高纯度、高稳定性的薄膜。而3532三氧化二钛(Ti2O3)靶材是磁控溅射制备TiO2薄膜的重要原料之一。本文将介绍3532三氧化二钛靶材的制备、性质和应用。 制备方法 3532三氧化二钛(Ti2O3)靶材可以通过化学气相沉积、反应烧结、电子束熔炼等多种方法制备。其中,反应烧结法是最常用的制备方法之一。该方法将粉末状的3532三氧化二钛(Ti2O3)原料和适量的助熔剂混合后,烧结成块状靶材。制备过程中需要控制烧结温度、保护气氛和烧结时间等